报道援引消息人士称,设备安装估计在2026年7月至9月间启动。设备到位后,平日须要近一年时光完成临盆线验证和量产预备,对于3纳米等先辈制程而言,因为涉及跨越1000道工序及严格的工艺验证,此过程可能更长。这一最新时光表与台积电董事长兼履行长魏哲家近期表态一致,他表示公司欲望提前于原筹划(2028年)启动美国临盆。
与此同时,《工商时报》报道,台积电将于岁尾前邀请投标亚利桑那第三座厂房的扶植合约。今朝,第一座亚利桑那厂已开端为苹果临盆芯片,并供给英伟达最新Blackwell架构AI处理器。一旦总额1650亿美元的亚利桑那项目周全完成,包含五座晶圆厂、高等封装举措措施及研发中间,台积电估计其最先辈芯片约30%将在美国制造。
此外,台积电正推敲调剂日本熊本第二厂筹划,据《日经》报道,公司或将该厂转向4纳米制程,而非原定的6纳米和7纳米,这可能须要设计变革并导致项目延后。


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