日本开辟全新纳米压印技巧 可替代EUV光刻机

具体技巧上，DNP的10nm纳米压印技巧采取SADP自对准双重图案技巧，一次曝光+两次图案可以或许制造成双倍精度的芯片，可以知足先辈工艺逻辑芯片的请求，并且功耗优势明显，DNP公司称其能耗只有当前主流工艺的1/10阁下。

该公司已经研发NIL技巧跨越20年，今朝的技巧已经可以部分替代EUV光刻，为芯片制造商供给另一种高精度工艺临盆的选择，如今已经在跟硬件供给商合作启动技巧评估。

DNP公司估计在完成客户验证，建立量产和供给体系之后，估计2027年开端量产出货。