消息称中国机密搞定第一台EUV光刻机 逆向自ASML 据外媒报道，中国一家秘密实验室已经悄然组装出第一台EUV极紫外光刻系统的原型机，是通过逆向工程ASML现有的光刻机产品而来的，正处于秘密测试阶段，计划2028年试产原型芯片。如果消息属实，无疑是中国的一次飞跃式突破，短短数年就掌握了原本需要数十年的技术。 互联网 2025年12月20日 0 点赞 0 评论 83 浏览
