日本开辟全新纳米压印技巧 可替代EUV光刻机
虽然在EUV光刻机上已经出局，但日本依然是全球第二大光刻机供应商，这几年日本公司也在憋足劲开发可替代EUV的光刻方案，他们选择了NIL纳米压印技术路线。此前日本佳能、尼康等公司有过这种技术展示，现在日本DNP公司（大日本印刷株式会社）也宣布开发出了10nm的NIL纳米压印技术，可以将电路图直接印在基板上，该技术可以用于1.4nm工艺的逻辑芯片曝光。
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