美商务部对ASML高端光刻机或流入中国表示关怀

报道称，勒特尼克是在与这家荷兰企业高等治理层会谈时提出上述关怀的。 对此，ASML方面予以辩驳，强调用于临盆超微细芯片电路的极紫外（EUV）光刻体系产量极其有限，并且在全部生命周期中都须要ASML工程师持续保护，是以设备的流转高度可控。

根据报道，ASML最先辈的EUV体系体积相当于一辆校车，重量约180吨，被视为当前高端芯片制造家当链中的关键“卡脖子”设备。 一名ASML谈话人被彭博社援引称：“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机，也未向中国出口过任何专门为EUV设备设计的部件、模块或设备。”

对于相干报道和说法，美国商务部、ASML以及白宫在路透社于正常办公时光之外接洽时均未急速作出回应。 路透社此前在客岁12月曾报道，中国科研团队在多名ASML前工程师的介入下开辟出一套EUV原型机，此举被描述为中国在高端芯片制造范畴的“曼哈顿筹划”式攻关项目。